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東莞市鼎偉新材料有限公司專(zhuān)業(yè)生產(chǎn):鎳釩合金靶、高純鉻靶、鈦鋁靶、鉻鋁靶、鎳鉻合金靶、鎢鈦合金靶材等;公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應用到國內外眾多知名電子、太陽(yáng)能企業(yè)當中,以較高的性?xún)r(jià)比,成功發(fā)替代了國外進(jìn)口產(chǎn)品,頗受用戶(hù)好評。

高純鉻靶的目標雜質(zhì)控制

時(shí)間:2021-04-16瀏覽數:799

高純鉻靶的目標雜質(zhì)控制:如果靶中的夾雜物數量過(guò)多,則在濺射過(guò)程中可能在晶片上形成顆粒,從而導致互連線(xiàn)短路或斷開(kāi),這將嚴重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數夾雜物是在冶煉和鑄造過(guò)程中形成的,主要由氧化物組成,但也包括氮化物,碳化物,氫化物,硫化物,硅化物等,因此應在冶煉和鑄造過(guò)程中使用。坩堝,內部 流道,鑄模等由還原性材料制成,在澆鑄之前,應將熔體表面的氧化物和其他爐渣徹底清除。 通常,它們在真空或無(wú)氧環(huán)境中熔融并澆鑄。鉻靶批發(fā)、鉻靶價(jià)格在市場(chǎng)也是不一樣的。


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