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對濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且較終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，較終形成薄膜。
濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射速率將成為主要參數之一。
以pld為例，因素主要有：
靶材與基片的晶格匹配程度
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